第1364章 膜厚控制(1 / 4)

八月三号,鹏城,实验楼三层。

钱院士带了十二个人,关在机房里,三天没出来。

手册拆开之后,问题比想象的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积,两套系统配合,精度要求到了亚纳米级别。

钱院士的助手小周拿着打印出来的参数表,站在设备前,对了半天。

“钱老,咱们这台溅射设备,靶材转速最高到三千转,手册上要求四千五。”

钱院士走过来,看了一眼参数。

“膜厚控制呢?”

小周翻到第三页:“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八,差四倍。”

钱院士把参数表放下,摘了老花镜。

设备不够——这是硬伤。

他打给张红旗。

“红旗,设备精度不够。手册里的工艺,咱们现有的机器跑不了。”

张红旗在煤市街:“差多少?”

“核心指标差三到四倍。要么换设备,要么改设备。换设备国内买不到,国外买走审批,最快半年。”

张红旗说:“改。”

“改设备风险很大,改坏了连现在的精度都保不住。”

张红旗说:“钱老,您先稳住。材料那边我来解决。设备改造的方案您先出,我这边配合。”

挂了。

八月四号,东京,住友化学株式会社。

住友的半导体材料部门收到了一份内部通报:asl和一家开曼信托公司达成了专利交叉授权协议,镀膜技术参数外流。

住友的材料部部长田中看完通报,叫来下属。

“查一下,之前跟我们采购高纯度钼靶材的那个中国团队,是不是鹏城那边的?”

下属查了记录:“是。去年十一月下过一批订单,后来因为出口管制审批卡住了,一直没发货。”

田中点头:“现在asl把技术给出去了,说明这个团队有背景。重新联系他们。”

下属问:“价格呢?”

田中说:“涨百分之五十。”

下属没多问,发了邮件。

八月五号,鹏城,钱院士收到住友的邮件。

他看了报价,眉头皱了一下,打给张红旗。

“材料供应商主动联系过来了——日本住友。高纯度钼靶材,去年卡住的那批货,现在愿意卖了,但是涨价百分之五十。”

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