波动带来的曝光线宽误差，控制在&177;12n以内；
响应速度：补偿延迟≤1，可适配晶圆台≥1200/的匀速扫描速度；
抗干扰能力：补偿效果不受浸没液瞬态温度波动、流速扰动、溶解气体含量变化的影响；
结构约束：方案不得改动现有曝光光学系统的核心结构与参数，不得改变浸没介质的成分与基础物性，无任何与晶圆表面直接接触的部件。
量产要求：方案核心部件可标准化批量生产，单套系统物料成本≤100万元人民币。】
「呵呵。」
这题如果是说人话的话就是：
我们国威装备现在在搞浸没式光刻机。
然后遇到点小问题。
水被雷射加热以后，什么折射率变了呀，什么光路歪了呀，所以良品率崩了。
我们呢，是养一大帮百万年薪的顶尖光学博士和流体力学专家。
但是！他们好像不太会。
所以，我们就想让你们这群连大学校门都没进的高中生，来试试能不能用不超过一百万块钱的成本，帮我把这个问题给秒了？
「好不要脸！」
就在李东吐槽题目的时候，考场里开始陆续传来「啪嗒」、「啪嗒」的声音。
那是考生们放下笔的声音。
坐在李东斜前方的那个魔都中学的男生，此刻正满脸的怀疑人生。
不远处，乔帆的草稿纸上画满了流体力学的纳维-斯托克斯方程和热传导偏微分方程……
这群学霸现在很懵逼，这给我干到哪来了？
这都不是超不超纲的问题了。
这是压根就没打算让人做出来啊！
要知道高中的物理竞赛，不，甚至是大学本科的普通物理，研究的都是「理想模型」。
一般都是无摩擦的表面，绝对刚性的杆，均匀恒温的介质。
但这道题，是「工程现实」！
别说做了，这些专攻物理竞赛的普通竞赛生，很多连这题里涉及的参数逻辑都看不懂！
如果谁真的能提出一个完美自洽且可落地的方案……
这就是帮国产半导体迈过了成熟制程自主可控的一道关键门槛。
「你们华轩科技……真敢想啊。」